描述

产品目录编号

101516

描述

Sulfuric acid 96%

产品信息

CAS号

7664-93-9

EC索引编号

016-020-00-8

EC号

231-639-5

Hill配方

H₂O₄S

化学配方

H₂SO₄

Molar Mass

98.08 g/mol

HS代码

2807 00 00

应用

应用

Sulfuric acid 96% Ultrapur. CAS 7664-93-9, EC Number 231-639-5, chemical formula H₂SO₄.

理化信息

密度

1.84 g/cm3 (20 °C)

熔点

-20 °C

pH值

0.3 (49 g/l, H₂O, 25 °C)

蒸汽压力

0.0001 hPa (20 °C)

GHS安全信息

危害性图示

危害性声明

H290: 可能腐蚀金属。
H314: 造成严重皮肤灼伤和眼损伤。

注意事项声明

P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P301 + P330 + P331: 如误吞咽：漱口。不要诱导呕吐。
P305 + P351 + P338: 如进入眼睛：用水小心冲洗几分钟。如戴隐形眼镜并可方便地取出，取出隐形眼镜。继续冲洗。
P308 + P310: 如有接触或有疑虑：立即呼叫中毒控制中心或就医。

RTECS

WS5600000

储存类别

8B 不易燃，有腐蚀性危害的物质

WGK

WGK 1 轻度的水危害

一次性

12
无机酸及酸酐应在冰水中小心地搅拌 稀释或水合,接着以氢氧化钠(编号:105587)中和(使用手套, 通风橱). 在归入第 D类之前,以广用试纸(编号:109535)测定 pH值. 发烟硫酸必须在搅拌中一次一滴的小心加入40%的 硫酸之中(编号:109286). 手持大量冰块以冷却. 当冷却足 够之后, 以上述方法处理高浓度的硫酸. 酸性蒸气(溴化 氢, 氯化氢, 碘化氢, 氯气, 光气, 二氧化硫)应通入稀氢 氧化钠溶液并以上述处理无机酸的方式处理.

安全信息

危害性符号

Corrosive

危险种类

?????

R相

R 35
Causes severe burns.

S相

S 26-30-45
In case of contact with eyes, rinse immediately with plenty of water and seek medical advice.Never add water to this product.In case of accident or if you feel unwell, seek medical advice immediately (show the label where possible).

储存和货运信息

储存

于 +5°C 到 +30°C储存.

运输信息

申报（铁路和陆路）ADR、RID

UN 1830 , 8, II

申报（空运）IATA-DGR

UN 1830 , 8, II

申报（海运）IMDG-代码

UN 1830 , 8, II, Segregation Group: 1 (Acids)

规格

Assay (acidimetric)

≥ 96 %

Ag (Silver)

≤ 50 ppt

Al (Aluminium)

≤ 200 ppt

As (Arsenic)

≤ 20 ppt

Au (Gold)

≤ 20 ppt

Ba (Barium)

≤ 200 ppt

Be (Beryllium)

≤ 20 ppt

Bi (Bismuth)

≤ 20 ppt

Ca (Calcium)

≤ 1000 ppt

Cd (Cadmium)

≤ 20 ppt

Ce (Cerium)

≤ 20.0 ppt

Co (Cobalt)

≤ 20 ppt

Cr (Chromium)

≤ 200 ppt

Cu (Copper)

≤ 50 ppt

Dy (Dysprosium)

≤ 20.0 ppt

Er (Erbium)

≤ 20.0 ppt

Eu (Europium)

≤ 20.0 ppt

Fe (Iron)

≤ 500 ppt

Ga (Gallium)

≤ 20.0 ppt

Gd (Gadolinium)

≤ 20 ppt

Ge (Germanium)

≤ 20 ppt

Hf(Hafnium)

≤ 10.0 ppt

Hg (Mercury)

≤ 500 ppt

Ho (Holmium)

≤ 20.0 ppt

In (Indium)

≤ 20.0 ppt

K (Potassium)

≤ 500 ppt

La (Lanthanum)

≤ 20.0 ppt

Li (Lithium)

≤ 20.0 ppt

Lu (Lutetium)

≤ 20.0 ppt

Mg (Magnesium)

≤ 500 ppt

Mn (Manganese)

≤ 20 ppt

Mo (Molybdenum)

≤ 50 ppt

Na (Sodium)

≤ 500 ppt

Nb (Niobium)

≤ 20.0 ppt

Nd (Neodymium)

≤ 20.0 ppt

Ni (Nickel)

≤ 100 ppt

Pb (Lead)

≤ 100 ppt

Pd (Palladium)

≤ 50 ppt

Pr (Praseodym)

≤ 20.0 ppt

Pt (Platinum)

≤ 20 ppt

Rb (Rubidium)

≤ 20.0 ppt

Sb (Antimony)

≤ 20 ppt

Sc (Scandium)

≤ 20 ppt

Se (Selenium)

≤ 500 ppt

Sm (Samarium)

≤ 20.0 ppt

Sn (Tin)

≤ 20 ppt

Sr (Strontium)

≤ 20.0 ppt

Ta (Tantalum)

≤ 50.0 ppt

Tb (Terbium)

≤ 20.0 ppt

Te (Tellur)

≤ 50 ppt

Th (Thorium)

≤ 10.00 ppt

Ti (Titanium)

≤ 50 ppt

Tl (Thallium)

≤ 20.0 ppt

Tm (Thulium)

≤ 20.0 ppt

U (Uranium)

≤ 10.00 ppt

V (Vanadium)

≤ 20 ppt

W (Wolfram)

≤ 100 ppt

Y (Yttrium)

≤ 10.0 ppt

Yb (Ytterbium)

≤ 20.0 ppt

Zn (Zinc)

≤ 200 ppt

Zr (Zirconium)

≤ 20.0 ppt

ICP-MS: Determination after evaporation to dryness with ICP-MS 
CSDPP: Determination with cathodic stripping differential pulse polarography 
CV-AAS: Determination with cold vapour AAS 

Actual analysis values are subject to unavoidable systematic variations in this concentration range