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金相抛光液的性能特点,一看便知

更新时间:2022-12-01 浏览次数:629

  金相抛光液是针对不同研磨材料的特性进行*的配方设计,抛光过程中,pH值基本保持不变,从而保证抛光速率的稳定,并节约抛光时间。广泛用于多种材料纳米级的化学机械抛光。如:蓝宝石材料、硅片、不锈钢、铝镁合金、化合物晶体等的抛光加工。

金相抛光液


  由于纳米二氧化硅成本相对较低,且具有良好的分散性、机械磨损性,高度度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点,是一种性能优良的CM P技术用的抛光材料。因而常被用于金属、蓝宝石、单晶硅、微晶玻璃、光导摄像管等表面准确抛光。


  金相抛光液的性能特点都有哪些呢?


  1、均匀的球形SiO2粒子;可循环使用多次;


  2、去除率高,抛光性能稳定;可选用中性或弱酸性抛光液对应。


  3、精密的抛光质量,Ra<0.2nm、TTV<3μm;


  4、有效减少抛光后的表面划伤,降低抛光后的表面粗糙度。


  5、适用于35℃以下的低温抛光工艺;


  6、高达到高平坦化研磨加工。


  7、该抛光液由高纯纳米二氧化硅复合配置而成,通过高科技术分散成纳米颗粒,高含量分散均匀的纳米抛光液。


  8、抛光速平坦度加工,抛光是利用SiO2等材料的均匀纳米粒子,不会对加工件造成物理损伤,速率快,利用分散均匀大粒径的胶体二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的


  9、高纯度,抛光液不腐蚀设备,使用的安全性能高。


  金相抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。本产品可用于硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛,具有抛光速率高,抛光后易清洗,表面粗糙度低,能够得到总厚偏差(TTV)极小的质量表面。


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