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更新时间:2025-08-12 浏览次数:106
将抛光布平整地固定在抛光机的抛光盘上,确保无褶皱、无气泡(可通过卡扣、黏合剂或弹性圈固定)。
若抛光布可更换,需检查抛光盘表面是否干净,避免残留颗粒划伤新布。
粗抛时通常搭配研磨膏(如碳化硅、氧化铝颗粒,粒度 80-400 目);
精抛时使用细粒度抛光液(如金刚石喷雾,粒度 0.5-1μm)或胶体(如二氧化硅溶胶)。
注意:抛光液需均匀滴加在抛光布上,避免过量导致飞溅或样品污染。
确保样品已完成研磨(表面无明显深划痕),并用清水冲洗干净,避免带入粗颗粒污染抛光布。
打开抛光机,调整转速:粗抛转速通常为 200-300r/min,精抛为 100-200r/min(根据样品材质灵活调整,脆性材料需降低转速)。
用手轻按样品(或使用样品夹),使样品表面均匀接触抛光布,压力适中(过大会导致样品发热变形或抛光布磨损过快,过小则效率低)。
抛光过程中需不断移动样品,避免局部过度抛光形成凹陷。
抛光过程中持续少量添加抛光液,保持抛光布湿润但不积水,确保磨粒均匀分布。
若使用水性抛光液,可同时用清水轻冲洗,帮助带走磨屑。
粗抛时间通常为 3-5 分钟,精抛为 5-10 分钟(根据样品表面状态判断,直至表面无明显划痕、光亮如镜)。
暂停设备,取下样品,用清水冲洗后观察表面状态:若仍有划痕,需延长抛光时间或更换更细粒度的抛光布和抛光液。
抛光结束后,关闭设备,用清水冲洗抛光布,去除残留的抛光液和磨屑(可配合软毛刷轻刷)。
若抛光布可重复使用,需晾干后再收纳,避免潮湿滋生细菌或发霉。
当抛光布表面出现明显磨损、起毛或残留顽固污渍时,需及时更换,避免影响后续样品质量。
废弃的抛光布需按实验室垃圾分类处理(若沾有化学抛光液,需先中和处理)。
清洁抛光盘,检查转轴是否灵活,为机械部件定期添加润滑油,确保下次使用正常。
操作时佩戴手套、护目镜,避免抛光液接触皮肤或飞溅入眼;长发需束起,避免卷入设备。
不同粒度的抛光布需专用,不可混用(如粗抛布的颗粒会污染精抛布);
更换抛光阶段时,需清洁样品和抛光盘。
对于多孔材料(如铸铁),需减少抛光压力,避免孔隙被磨屑堵塞;
对于易氧化的样品(如镁合金),可在抛光液中添加防锈剂或抗氧化剂。
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