金相制样目的就是制备平整镜面，用于腐蚀后观测，或者直接观测。磨抛的重要性显而易见。如果说切割和镶嵌都是制样的前期步骤的话，那么磨抛就是制样环节中最为重要的步骤。有幸避开了切割和镶嵌工序的小伙伴，在磨抛阶段要更加谨慎仔细，稍有不慎便会功亏一篑。

　　磨抛分为磨平和抛光两个阶段。磨平的目的是快速去除切割留下的粗糙表面，获取平整的新鲜表面。而抛光则是逐级提高样品表面的粗糙度，直至达到光学观测的镜面水平。对于备而言，磨平和抛光都可以在一台机器上完成。而对于耗材而言，磨平和抛光有大的不同。磨平阶段，是相当于制样阶段的粗加工，需要粗磨粒的快速磨削，通常用碳化硅砂纸或者金刚石磨盘，基本不需要外加磨粒，加注大量的水即可。

　　抛光是样品磨削的精加工阶段对材料的表面亲和力以及材料去除的难易程度非常敏感，通常抛光盘是载体，抛光液是磨粒载体，二者搭配使用，比如抛光盘的材质有丝绸，羊绒，化工显微，橡胶，绒布等，不同材质与纺织特点决定了他们对磨粒的储存特性和磨削特性；对于抛光液而言，多以金刚石磨粒，多晶金刚石刃口丰富，磨削速度快，有效避免边缘圆化，单晶成本较低，普通应用可以应付。对于精细终抛的时候，有很多的氧化物抛光液，粒度可以做到

　　1微米以下。值得一提的是，金刚石磨盘得到了越来越多的应用，特别是精磨阶段，快速简单，并且可以反复多次使用，寿命很长，所以综合性价比很高。通常来说磨平阶段的磨粒直径在100微米以上，所以基础划痕自然也在100微米上下，抛光的过程就是逐级降低划痕大小，最终在

　　1微米以内，常规光学倍数下面不可见，适合直接观测分析，或腐蚀后进行观测分析。由此可见，磨抛就是一个微细的材料平面磨削过程，磨削介质有两个来源，磨盘和悬浮液。特别是抛光的初级阶段，磨粒来源与磨盘，磨盘面可以是砂纸，也可以是带有金刚石或其他类型磨粒的研磨盘，这个过程也可以辅以悬浮液来强化研磨效果。

　　在抛光的后期阶段，磨盘是不同类型的面料，本身不包含磨粒，但是可以收纳存储来自于悬浮液的磨粒。磨抛的目标是逐级消除划痕，宏观上是材料磨削的物理过程。事实上由于应力的原因，样品表面处于一种高能的状态，很容易与水、空气、磨削介质等发生电化学反应，所以不同材质的样品对磨抛耗材的搭配很是讲究，需要大量的尝试积累才能找到有效且简便的方法。

　　综上所述，金相师的主要任务就是不断的摸索和优化的各种组合，然后将其固化下来，与其他人分享这个过程注定要反复摸索尝试，少不了走弯路和耗费时间精力。